Vakuum-beheizte Laborpresse
40-Ten-Vakuum-Heißpresse 400x400 mm mit unabhängiger Temperatur- und Drucksteuerung
Artikelnummer : XP24
Preis variiert je nach Spezifikationen und Anpassungen
- Maximaler Arbeitsdruck
- 0–40 Tonnen (0–400 kN)
- Effektive Platinengröße
- 400 × 400 mm
- Temperaturbereich
- Raumtemperatur bis 300°C
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Produktübersicht


Dieses System ist eine präzise Vakuum-Heißpresse, die für die Materialkonsolidierung unter hohem Druck und bei hohen Temperaturen in einer kontrollierten Umgebung entwickelt wurde. Mit einer maximalen Kraft von 40 Tonnen auf einer 400 × 400 mm großen Plattenfläche und einer Vakuumfähigkeit bis zu -0,1 MPa liefert sie außergewöhnliche Parallelität und Druckgleichmäßigkeit. Die integrierte Heizung und Vakuumkammer ermöglichen die fortschrittliche Verarbeitung luftempfindlicher Materialien, die kontaminationsfreie Bedingungen erfordern.
Ideal für Forschungslabore und Pilotproduktionen wird dieses Gerät weitgehend zur Verdichtung von Batterieelektroden, zur Laminierung von Festkörperelektrolyten, zum Sintern von keramischen Verbundwerkstoffen und zur Polymerformgebung eingesetzt. Die Möglichkeit, Temperaturanstieg und hydraulische Belastung unabhängig zu programmieren, stellt sicher, dass Materialien nur im optimalen thermischen Zustand komprimiert werden, was Schäden durch Scherung im Frühstadium verhindert.
Für Langlebigkeit konstruiert, begrenzt der 600 kg schwere, steife, geschlossene Rahmen die elastische Verformung auf Mikrometer-Ebene, auch unter Volllast. In Kombination mit industrieller 380V-Ausgleichsheizung, thermischen Barrieren und einer polierten Edelstahl-Vakuumkammer garantiert diese Einheit langfristige Wiederholbarkeit und sicheren Betrieb in anspruchsvollen, rund um die Uhr laufenden Umgebungen.
Hauptmerkmale
- Steifer Vier-Säulen-Lastrahmen: Die massive 600 kg geschweißte Struktur verwendet ein geschlossenes Design, das die 400 kN Reaktionskraft ausgleicht, die Plattenparallelität innerhalb enger Toleranzen hält und eine Rahmendurchbiegung auf Mikrometer-Ebene für eine gleichmäßige Druckverteilung über die gesamte 400 × 400 mm Fläche gewährleistet.
- Symmetrische Matrixheizung: Ein 5,5 kW Heizsystem mit 380V 3-Phasen-Strom verteilt die Heizelemente in einer gleichmäßigen Matrix über die Platten und minimiert thermische Gradienten und Hotspots – entscheidend für eine konsistente Teilqualität in temperaturempfindlichen Prozessen.
- Hochvakuum-Edelstahlkammer: Gefertigt aus dickwandigem SUS304-Edelstahl mit spiegelpolierten Innenflächen, wird die Kammer mittels Druck und Helium-Massenspektrometrie auf Lecks geprüft und bietet ein statisches Vakuum bis zu -0,1 MPa, um flüchtige Stoffe zu entfernen und Oxidation zu verhindern.
- Doppelter Gasanschluss mit Mikrojustierung: Nach dem Evakuieren können kontrollierte Ströme von N₂ oder Ar über präzise Dosierventile eingebracht werden, um eine schützende Inertgasatmosphäre für empfindliche Materialien wie Lithiumverbindungen oder Hochtemperaturlegierungen zu schaffen.
- Unabhängige Temperatur-Druck-Profilierung: Operatoren können thermische Rampen von der hydraulischen Belastung entkoppeln und Temperatursollwerte programmieren, bevor die Kompression eingeleitet wird; dies verhindert vorzeitige Scherspannungen auf Materialien an ihren Erweichungs- oder Phasenübergangspunkten und verbessert die Gleichmäßigkeit der Verdichtung.
- Integrierte Wasserkühlkreisläufe: Eingebaute Durchgangskühlkanäle in den Platten ermöglichen eine schnelle Wärmeableitung nach Zyklusende; dies verkürzt nicht nur die Durchlaufzeit, sondern schützt Heizelemente auch vor langfristiger Drift durch übermäßige Wärmespeicherung.
- Thermische Isolationsbarrieren: Isolierplatten, die zwischen den beheizten Platten und dem hydraulischen Aktor positioniert sind, schützen Dichtungen und Komponenten vor anhaltend hohen Temperaturen, verlängern die Wartungsintervalle und gewährleisten eine zuverlässige Betätigung.
- Industrielle elektrische Integration: Das System erfordert eine 380V 50Hz 3-Phasen-Versorgung, einen empfohlenen 16A-Schalter und eine ordnungsgemäße Erdung; es ist für robuste industrielle Umgebungen konzipiert und entspricht den Standard-Elektrokodes.
Anwendungen
| Anwendung | Beschreibung | Hauptvorteil |
|---|---|---|
| Verdichtung von Li-Ionen-Batterieelektroden | Vakuum-Heißpressen von Kathoden-/Anodenfolien (z. B. NMC, LFP), um eine Zielporosität zu erreichen und die elektrische Leitfähigkeit zu verbessern. | Gleichmäßige Verdichtungskraft beseitigt Dichtegradienten, steigert die Energiedichte und die Zykluslebensdauer. |
| Laminierung von Festkörperbatterieschichten | Laminieren von Elektrolytseparatoren mit Lithiummetallanoden unter Vakuum, um Grenzflächenhohlräume und Oxidation zu vermeiden. | Ultrasaube Bonding-Oberflächen sorgen für niedrigen Ionenwiderstand und überlegene Zellsicherheit. |
| Sintern von fortschrittlichen Keramiken | Druckunterstützte Verdichtung von technischen Keramiken (Aluminiumoxid, Zirkonoxid, Siliziumkarbid) bei hohen Temperaturen im Vakuum oder Inertgas. | Erreicht nahezu theoretische Dichte mit feinkörniger Struktur, verbessert die mechanische Festigkeit und Verschleißfestigkeit. |
| Pulvermetallurgische Verdichtung | Verpressen von Metall- oder Legierungspulvern zu vorformlingen nahe der Endkontur mit reduzierter Porosität, gefolgt vom Sintern. | Hohe Grünrohdichte führt zu verbesserter Materialhomogenität und weniger Schrumpfung beim Sintern. |
| CFK- und Verbundwerkstoff-Formgebung | Aushärten von kohlenstofffaserverstärkten Prepregs unter Wärme und Druck, während Vakuum Luft entfernt, um Delaminationen zu vermeiden. | Leichte Strukturteile mit minimalem Hohlraumanteil für Luft- und Raumfahrt- sowie Automobilanwendungen. |
| Herstellung von Mikrofluidik-Chips | Heißprägen von thermoplastischen Substraten (PMMA, COC) mittels präzise gefertigter Formen unter Vakuum für blasenfreie Reproduktion. | Hochauflösender Merkmalstransfer bis in den Mikrometerbereich, essentiell für Lab-on-a-Chip-Geräte. |
| Sputtering-Target-Bonding | Bonding von Indium oder anderen Bonding-Schichten zwischen Targetmaterial und Rückplatte unter kontrollierter Wärme und Druck im Vakuum. | Hohe Bindungsintegrität und Wärmeleitfähigkeit für zuverlässige Dünnschichtbeschichtungsprozesse. |
| Verarbeitung von Hochleistungspolymeren | Pressformen von PEEK, PEKK und anderen hochtemperaturbeständigen Thermoplasten unter Vakuum, um oxidativen Abbau zu verhindern. | Konsistente mechanische Eigenschaften und Oberflächenfinish für anspruchsvolle medizinische oder Halbleiterkomponenten. |
Technische Spezifikationen
| Modul | Parameter | Spezifikation |
|---|---|---|
| Allgemein | Modell | XP24 |
| Kraft | Maximaler Arbeitsdruck | 0–40 Tonnen (0–400 kN), stufenlos einstellbar über hydraulische Präzisionsdrucksteuerung |
| Effektive Plattenfläche | 400 × 400 mm | |
| Ebenheit der Plattenoberfläche | ≤ 0,05 mm über die gesamte Oberfläche | |
| Lastrahmen-Design | Steifer Vier-Säulen-Geschlossener-Rahmen, Nettogewicht 600 kg, minimale elastische Verformung bei Volllast | |
| Thermisch | Temperaturbereich | Raumtemperatur bis 300°C (maximale Design-Temperatur 320°C) |
| Heizleistung | 5,5 kW (5500 W), 380V 3-Phasen, Widerstandsheizelement-Matrix | |
| Heizrate | 2–5°C/min, abhängig von Werkzeug und thermischer Masse der Probe | |
| Kühlsystem | Integrierte doppelte Wasserkühlkanäle in den Platten; erfordert externe Chiller (empfohlene Kapazität ≥2,0 kW, 15–25°C Wasser) | |
| Thermischer Schutz | Isolierbarrieren zwischen beheizten Platten und Hydraulik verhindern Wärmemigration | |
| Vakuum & Atmosphäre | Kammermaterial | SUS304 Edelstahl, dickwandig, interne Spiegelbearbeitung für geringe Ausgasung |
| Vakuumniveau | Statisches Vakuum bis zu -0,1 MPa (ca. 10 Pa) über externe Vakuumpumpe | |
| Leckerkennung | Test mit Hochdruckstickstoff und Helium-Massenspektrometer für Kammerintegrität | |
| Gasversorgung | Doppelte unabhängige Kanäle für N₂/Ar mit präziser Mikroflusssteuerung und Sicherheitsablassventil | |
| Versorgung & Installation | Stromversorgung | AC 380V, 50Hz, 3-Phasen + Neutralleiter + PE (5-Draht); empfohlener Leitungsschutzschalter 16A, 3P+N+PE mit Fehlerstromschutz; Kabelquerschnitt ≥4 mm² Kupfer |
| Anforderung Vakuumpumpe | Externe Pumpe mit Förderleistung ≥4 L/s, Ölenebel-Filter oder trockene Scroll-Pumpe empfohlen | |
| Externe Abmessungen (B×T×H) | 900 × 850 × 1300 mm (Standgerät, erfordert festen, ebenen Betonboden) | |
| Nettogewicht | Ca. 600 kg | |
| Kühlwasserschnittstelle | Schnellverschlusskupplungen für den Anschluss an einen externen Chiller |
Warum dieses Produkt wählen
- Ultimative Parallelität unter Last: Der 600 kg steife Rahmen minimiert die Rahmenspreizung und hält die Plattenparallelität innerhalb enger Toleranzen, auch bei 40 Tonnen – essentiell für das Pressen im Großformat, bei dem die Gleichmäßigkeit von Kante zu Kante die Qualität des Bauteils bestimmt.
- Thermische Gleichmäßigkeit für Wiederholbarkeit: Die Matrixheiz-Layout eliminiert Hotspots, während die integrierte Wasserkühlung die Zykluszeiten beschleunigt und die Genauigkeit der Heizelemente bewahrt, was Forschung mit hohem Durchsatz ohne Drift ermöglicht.
- Kontaminationsfreie Verarbeitung: Die polierte SUS304-Vakuumkammer und die -0,1 MPa-Fähigkeit in Kombination mit doppeltem Gaseinlass bieten eine makellose Umgebung für oxidationsempfindliche oder ausgasende Materialien und reduzieren den Ausschuss.
- Speziell für Industrielabore entwickelt: Konzipiert für 380V-Dreiphasenbetrieb mit robustem Stromkreisschutz und thermischen Sicherheitsbarrieren erfüllt dieses System die hohen Taktzyklen professioneller Entwicklungsumgebungen.
- Flexible Prozessprogrammierung: Entkoppelte Temperatur- und Druckprofile ermöglichen es, komplexes Materialverhalten während des Sinterns oder Laminierens nachzuahmen und so eine optimale Verdichtung im richtigen thermischen Fenster sicherzustellen.
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Produktdatenblatt
40-Ten-Vakuum-Heißpresse 400x400 mm mit unabhängiger Temperatur- und Drucksteuerung
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