Beschichtungsmaschine mit Bodenheizung

Produktübersicht

Diese Beschichtungsmaschine mit Bodenheizung wurde für die Hochtemperatur-Beschichtungsforschung an Keramikfilmen, Kristallfilmen, Batteriematerialfilmen und speziellen Nanofilmen entwickelt. Ihre integrierten Funktionen für Beschichtung, Vakuumfixierung und Bodenheizung unterstützen eine kontrollierte Filmbildung und Trocknung in einem kompakten Laborsystem. Das Gerät eignet sich für Forschungsprogramme, die zukünftige filmbildende Technologien unter erhöhten Temperaturbedingungen untersuchen.

Das System kombiniert eine programmierbare Beschichtungsbewegung mit einer Vakuum-Aluminiumplatte und einstellbarer Heizung. Forscher können Beschichtungsgeschwindigkeit, Verfahrweg, Heiztemperatur und Trocknungszeit über die Touchscreen-Oberfläche einstellen. Dies macht das Gerät geeignet für die Elektrodenherstellung, die Entwicklung funktioneller Filme, Materialstudien und die Prozessbewertung im Labormaßstab.

Eine Präzisions-Mikrometerklinge, eine starre Blechkonstruktion, eine digitale Temperaturregelung und eine ölfreie Vakuumpumpe bieten eine praktische Grundlage für reproduzierbare Arbeiten. Die Ausrüstung ist für Laborumgebungen konfiguriert, in denen kontrollierte Schichtdicke, stabile Substratpositionierung, kompakte Abmessungen und einfache Bedienung für die tägliche Forschungsproduktivität wichtig sind.

Hauptmerkmale

• Bodenheizung und Trocknung: Das integrierte Vakuumplatten-Heizsystem arbeitet von Raumtemperatur bis 150 °C. Ein digitaler Temperaturregler bietet eine Genauigkeit von ±1 °C für gleichmäßige Trocknungsbedingungen nach der Beschichtung.

• Mikrometergenaue Dickenkontrolle: Die verstellbare Klinge hat einen Dickeneinstellbereich von 0 bis 5 mm und eine Genauigkeit der Schichtdickenkontrolle von 0,01 mm. Dies unterstützt die präzise Herstellung von Forschungsfilmen und Elektrodenbeschichtungen.

• Einstellbare Beschichtungsgeschwindigkeit: Die Beschichtungsgeschwindigkeit kann von 0 bis 120 mm pro Sekunde eingestellt werden. Forscher können die Beschichtungsbewegung an das Verhalten des Schlickers, die angestrebte Filmdicke und die Anforderungen der Prozessentwicklung anpassen.

• SPS- und Touchscreen-Steuerung: Der SPS-basierte Betrieb und eine Touchscreen-Schnittstelle machen die Parametereinstellung und Beobachtung komfortabel. Der Beschichtungshub von 0 bis 300 mm kann ebenfalls über den Touchscreen eingestellt werden.

• Vakuum-Substratfixierung: Die Vakuum-Aluminiumplatte hält das Substrat während der Beschichtung sicher fest. Schnelles Platzieren und Entfernen tragen dazu bei, die Probenvorbereitung zu rationalisieren und unnötige Handhabung zu reduzieren.

• 100 mm Standard-Beschichtungsbreite: Die Standardbreite der Beschichtungsvorrichtung beträgt 100 mm und bietet ein praktisches Arbeitsformat für die Laborfilm- und Elektrodenforschung bei gleichzeitig kompaktem Platzbedarf.

• Kompaktes strukturelles Design: Die Gesamtabmessungen von L550 mm × B350 mm × H320 mm helfen, wertvollen Laborplatz zu sparen. Das dreidimensionale geometrische Blechdesign sorgt für ein sauberes Erscheinungsbild und eine organisierte Gerätestruktur.

• Integrierte Vakuumversorgung: Eine ölfreie Vakuumpumpe ist im Lieferumfang enthalten. Dies bietet eine dedizierte Vakuumquelle für die Substratfixierung, ohne dass eine zusätzliche Pumpenauswahl für den Standardbetrieb erforderlich ist.

Anwendungen

Technische Spezifikationen

Gerätekonfiguration

Beschichtungs- und Heizleistung

Kompatible Substratdaten

Betriebsablauf

Der Betriebsablauf unterteilt die Substratfixierung, die Schlickerbeschichtung und die beheizte Trocknung in klare Phasen. Diese Anordnung ermöglicht es Forschern, eine Probe vorzubereiten, die programmierte Beschichtungsbewegung abzuschließen und dann die gewählte Trocknungsbedingung anzuwenden, ohne das beschichtete Substrat auf eine separate Heizplattform übertragen zu müssen. Die Vakuumplatte bleibt während des gesamten Prozesses die zentrale Arbeitsfläche und unterstützt die stabile Handhabung von Aluminiumfolie, Kupferfolie und anderen Forschungssubstraten innerhalb der angegebenen Abmessungsbereiche.

Der einstellbare Beschichtungsgeschwindigkeitsbereich ermöglicht die Prozessentwicklung über verschiedene Schlickerformulierungen und Filmziele hinweg. Niedrigere Geschwindigkeiten können für die Prozessbewertung gewählt werden, bei der eine kontrollierte Materialabscheidung erforderlich ist, während höhere Geschwindigkeiten eine schnellere Probenvorbereitung unterstützen, wenn die Formulierung und die angestrebte Beschichtungsbedingung dies zulassen. Klingeneinstellung und Beschichtungshub können über den Touchscreen konfiguriert werden, was dem Bediener ermöglicht, einen reproduzierbaren Ausgangspunkt für Vergleichsexperimente festzulegen.

Die Bodenheizfunktion ist besonders relevant für Forschungsprogramme, die Trocknung und Filmbildung bei erhöhten Temperaturen untersuchen. Der digitale Regler zeigt die gewählte Temperatur an, und die angegebene Genauigkeit von ±1 °C unterstützt konsistente thermische Bedingungen zwischen den Experimenten. Da das Heizsystem unter der Vakuumplatte integriert ist, kann das beschichtete Substrat während der Trocknungsphase fixiert bleiben, was zusätzliche Bewegungen während der Probenvorbereitung reduziert.

Das physische Design ist auch für Labore mit begrenztem Platz auf dem Labortisch geeignet. Die Stellfläche von L550 mm × B350 mm × H320 mm kombiniert den Beschichtungsmechanismus, die Vakuumplatte, das Heizsystem, die Steuerung und die enthaltene Vakuumpumpe in einem kompakten Format. Das starre Blechgehäuse verwendet ein dreidimensionales geometrisches Design, das ein sauberes, organisiertes Erscheinungsbild bietet und gleichzeitig die interne Gerätestruktur während des routinemäßigen Laborgebrauchs schützt.

Warum dieses Produkt wählen

• Integrierter Forschungsworkflow: Vakuumfixierung, programmierbare Beschichtung, einstellbare Klingensteuerung und Bodenheizung sind in einer Einheit kombiniert, was Transfers zwischen separaten Vorbereitungsphasen reduziert.

• Reproduzierbare Prozesskontrolle: Einstellbare Beschichtungsgeschwindigkeit, 0,01 mm Genauigkeit der Schichtdickenkontrolle, programmierbarer Hub von 0 bis 300 mm und ±1 °C Temperaturregelgenauigkeit bieten messbare Prozesseinstellungen für die vergleichende Forschung.

• Substratstabilität: Die Vakuum-Aluminiumplatte hilft, Elektrodenblätter während der Beschichtung und Trocknung sicher zu halten, was eine konsistente Probenhandhabung bei Studien mit Aluminium- und Kupferfolien unterstützt.

• Effiziente Laborstellfläche: Kompakte Gesamtabmessungen und die enthaltene ölfreie Vakuumpumpe vereinfachen die Installation, wo Platz auf dem Labortisch und Geräteintegration wichtige Überlegungen sind.

Für ein Angebot oder eine Beschichtungskonfiguration, die auf Ihre Filmanforderungen zugeschnitten ist, kontaktieren Sie unser technisches Team, um eine geeignete Lösung zu besprechen.

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